第五题 电子元件厂
某公司拟在工业园区建设一电子元器件生产企业A厂。电子元器件生产以硅片为基材，经氨水清洗，氢氟酸/硫酸蚀刻、砷化氢掺杂、硫酸铜化学镀等工序得到产品。其中掺杂工序和化学镀工序流程见下图。
生产过程中产生的清洗废水、蚀刻废水、尾气洗涤塔废水、化学镀废水经预处理后进最终中和池，最终中和池出水排入园区污水处理厂。废水预处理后的情况见下表。
园区污水处理厂处理能力为5.0×104t/d。目前实际处理量为3.3×104L/d。接管水质要求为COD350mg/L、NH3—N25mg,/L、TP6mg/L，其他指标需达到《污水综合排放标准》(GB 8978—1996)表的表4三级排放标准氟化物20mg/L、Cu2.0mg,/L、As0.5mg/L)。
氨水清洗工序产生的清洗废水中氨含量为0.02%，为降低废水中氨浓度，拟采取热交换吹脱法除氨，氨的吹脱效率为80%，吹脱出的氨经15m高排气筒排放(GB 14554—1993规定，15m高排气筒氨排放限值为4.9kg/h)。
[问题]
评价本工程采用的热交换吹脱法除氨废气排放达标情况。给出废气排放的控制措施。
参考答案：
(1)热交换吹脱法除氨量为：1200×1000×0.02%×80%=192kg/d，工作时间按24h计，则废气排放速率为：192÷24=8kg/h。废气排放速率8kg/h＞4.9kg/h的限值，说明该治理方案不满足《恶臭污染物排放标准》(GB 1455—93)废气达标排放要求。 (2)废气排放的控制措施有：喷淋或碱水洗涤法、活性炭吸附法、生物脱除法、加高排气筒高度等。 从清洁生产考虑，污染控制措施应从源头开始实施全过程控制，应通过改进清洗工艺，减少含氨废气、废水的产生，同时根据含氨废水污染特征选择更合理的废水处理工艺(如物化脱氮、生化脱氮、高级氧化等处理工艺)，从根本上削减氨的排放。 针对废气，可采用简单的高空排放的方式做到达标排放，或者加装洗涤、吸收等处理工艺来实现达标排放，控制对环境的影响程度。