晶体二极管可做整流元件。
参考答案:对
患者,男性,65岁,冠部严重缺损,仅余留颊侧及近中壁,远中壁位于龈上,舌侧壁位于龈下1mm。X线显示,已行完善的根管治疗。
如果该患者冠根比例大,应将冠边缘设计在()
A.平齐龈缘
B.龈缘以上
C.龈缘以下1mm
D.龈缘以下2mm
E.龈缘以下0.5mm
UIM单板包括UIMU单板和UIMC单板,()仅进行控制流交互。
A、UIMU
B、UIMC
C、都不是
D、都是