中等程度手术,合成代谢期一般发生于术后()
A.24~48h
B.48~72h
C.3~5天
D.7~10天
E.10~15天
参考答案:D
反应性温度系数 temperature coefficient of reactivity
进行特高频局放检测时,当现场存在明显的背景干扰时,应采用加装屏蔽带的措施抑制外部干扰信号的耦合,屏蔽带应当()。
A.用手拿着
B.放置在盆式绝缘子上
C.固定在盆式绝缘子上
D.悬浮在空气中