研磨场地要求干燥，一般相对湿度在（）左右

A、20%~30%

B、30%~40%

C、40%~60%

D、60%~70%

下列哪项不是质粒被选为基因运载体的理由（）

A.能进行自我复制

B.DNA为环状

C.有多个限制酶切点

D.具有标记基因