放疗中最佳靶区剂量定义为()

A．肿瘤的最大致死剂量 

B．肿瘤得到最大控制率的剂量 

C．不超过正常组织耐受量的肿瘤最大剂量 

D．得到肿瘤最大控制率而无并发症的剂量 

E．无正常组织并发症的剂量 

CMP是一种表面（）的技术，它通过硅片和一个抛光头之间的相对运动来平坦化硅片表面，在硅片和抛光头之间有（），并同时施加（）。