问题
填空题
(8分) 三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它能发生如下反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。请回答下列问题：
⑴NF3中氮元素的化合价为 ；
⑵NF3的 大于HNO3（填氧化性或还原性）；
⑶在上述反应中还原剂与氧化剂的物质的量之比为 ；
⑷若生成0.2 mol HNO3，则转移的电子数为 ；
答案
搜题请搜索小程序“爱下问搜题”
(8分) 三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它能发生如下反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。请回答下列问题：
⑴NF3中氮元素的化合价为 ；
⑵NF3的 大于HNO3（填氧化性或还原性）；
⑶在上述反应中还原剂与氧化剂的物质的量之比为 ；
⑷若生成0.2 mol HNO3，则转移的电子数为 ；