如图所示，a．b．c．d为匀强电场中的四个等势面，一个电子射入电场后的运动轨迹如实线MN所示，由此可知（    ）

A．电子在N的动能大于在M的动能

B．电子在N的电势能小于在M的电势能

C．电场强度方向向左

D．电场中，a点电势低于b点电势

关于培养基量的质量控制，叙述正确的是

A．MH平板厚度应为5mm
B．其他平板厚度一般为4mm
C．直径90mm的Mt平板注入25ml培养基
D．双糖铁培养基底层至少有2cm的直立段
E．斜面培养基的长度不超过试管的1/3