单项选择。
Have tea, mum![ ]
A. many
B. any
C. much
D. some
答案：D
设备管道吹扫的基本原则是（）
A、先源头后尾部
B、先主管后旁支
C、先管道后容器
D、边吹扫边敲击
在晶体三极管中掺杂浓度最高的区域是（）
A.基区
B.集电区
C.发射区
D.饱和区
