正方形导体框处于匀强磁场中，磁场方向垂直框平面，磁感应强度随时间均匀增加，变化率为k。导体框质量为m、边长为L，总电阻为R，在恒定外力F作用下由静止开始运动。导体框在磁场中的加速度大小为____________；导体框中感应电流做功的功率为____________。

以下关于自顶向下的规划和自底向上的设计的叙述中，正确的是

A．自顶向下的规划和自底向上的设计是独立和相反的两个过程

B．自底，向上的设计是自顶向下的规划的延伸

C．自底向上的设计的成果是建立了主题数据库

D．自底向上的设计时不能对自顶向下的规划的结果和观点做任何调整