问题
选择题
四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：SiCl4+2H2 4HCl+Si下列说法不合理的是（ ）A．反应制得的硅可用于制造半导体材料 B．增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率 C．四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得 D．混入少量空气对上述反应无影响 |
答案
答案：D
搜题请搜索小程序“爱下问搜题”
| 四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：SiCl4+2H24HCl+Si下列说法不合理的是（ ） A．反应制得的硅可用于制造半导体材料 B．增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率 C．四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得 D．混入少量空气对上述反应无影响 |
答案：D