近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放．蚀刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、碱性的（NH3-NH4Cl）以及传统的（HCl-FeCl3）等3种．蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失．几种蚀刻废液的常用处理方法如下：
（1）FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂，可回收铜并使蚀刻液再生．发生的主要化学反应有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还有______、______．（用离子方程式表示）．
（2）HCl-H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：______．
（3）H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中，加入的试剂A的最佳选择是下列中的______（填序号）
①酸性KMnO4溶液 ②NaCl（固） ③葡萄糖 ④甲醛
（4）处理H2O2型酸性废液回收Cu2（OH）2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时，产品颜色发暗，其原因可能是______．
（5）碱性蚀刻液发生的化学反应是：2Cu+4NH4Cl+4NH3•H2O+O2=2Cu（NH3）4Cl2+6H2O，处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是______．
（1）FeCl3型酸性废液中含有Fe3+和Fe2+，Fe3+具有氧化性，可与Fe反应，离子方程式为Fe+2Fe3+=3Fe2+，Fe2+具有还原性，可与Cl2反应，离子方程式为2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-，
故答案为：Fe+2Fe3+=3Fe2+；2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-；
（2）H2O2在酸性条件下具有强氧化性，可氧化Cu生成CuCl2，反应的化学方程式为Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O，
故答案为：Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O；
（3）HCl-H2O2型蚀刻液含有Cu2+，在碱性条件下生成Cu（OH）2，可与弱还原剂生成Cu2O，选项中葡萄糖和甲醛都可，但葡萄糖资源广，无害，最合适，故答案为：③；
（4）当温度高于80℃时，Cu2（OH）2CO3易分解生成黑色CuO，导致产品颜色发暗，
故答案为：温度高会使产物部分分解产生黑色的氧化铜导致产品颜色发暗；
（5）Cu2+易与NH3发生反应生成配合物Cu（NH3）4Cl2，促使溶液中Cu（NH3）4Cl2结晶析出，故答案为：促使溶液中Cu（NH3）4Cl2结晶析出．