真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉，上釉有两种方法：自行上釉和分别上釉，其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟，高于体瓷烧熔温度的范围是（）。

A.31～40℃

B.21～30℃

C.10℃以内

D.11～20℃

E.5℃

适用于未定型产品的有效生产系统是（）

A、大量生产

B、成批生产

C、单件小批量生产

D、流水线生产