金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度，因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量

PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是（）

A.非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜

B.贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜

C.非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜

D.非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同

E.理想的氧化膜厚度为0.2～2μm

生产中，进入抽提塔的最大流量是（），因此，温度主要取决于（）的入塔温度。