问题
多选题
光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（ ）
A．合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2
B．1 mol该物质可消耗4molH2
C．该物质可稳定存在于碱性溶液中
D．该物质可经过加聚反应制得
答案
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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（ ）
A．合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2
B．1 mol该物质可消耗4molH2
C．该物质可稳定存在于碱性溶液中
D．该物质可经过加聚反应制得
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