最适于制备缓、控释制剂的药物半衰期为()
A.<1小时
B.2~8小时
C.24~32小时
D.32~48小时
E.>48小时
参考答案:B
生产企业应当具备并维护产品生产所需的()和测量装置、仓储场地等基础设施以及工作环境。生产环境应当符合相关法规和技术标准的要求。
A.生产资料
B.生产场地
C.生产设备
D.监视
依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定,下列表述中不正确的表述是:()
A.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权
B.外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
C.外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。
D.中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计,可以依照本条例享有布图设计专有权。