制备O/W或W/O型乳剂的主要因素是()
A.乳化剂的HLB值
B.乳化剂的量
C.乳化剂的HLB值和两相的量比
D.制备工艺
E.两相的量比
参考答案:C
烤瓷修复体遮色瓷的厚度为()
A.<0.1mm
B.0.1~0.2mm
C.0.3mm
D.0.4mm
E.>0.4mm
MX-1型和MX-2型橡胶缓冲器的主要缺点之一是橡胶反冲速度快。