中低能β射线的防护应采用（）

A．原子序数较低的材料屏蔽

B．内层低原子序数材料，外层高原子序数材料屏蔽

C．铅或混凝土等材料屏蔽

D．极力避免核素进入体内

E．无需防护

光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。