作为合成高分子化合物单体的毒物是
A.苯
B.氯乙烯
C.甲苯
D.二甲苯
E.三硝基甲苯
参考答案:B
发生压疮的继发危险因素有()
A.运动能力减弱
B.剪切力
C.营养状况差
D.年龄
E.潮湿
最适于制备缓、控释制剂的药物半衰期为()。
A.<1小时
B.2~8小时
C.24~32小时
D.32~48小时
E.>48小时