膜反应性溶解抑制物（）
A.经典途径C3转化酶
B.旁路途径C5转化酶
C.膜结合补体调节分子
D.可溶性补体调节分子
E.膜攻击复合物
参考答案：C
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A. be building
B. build
C. be built
硅是一种良好的半导体材料。工业上用碳在高温下还原二氧化硅的方法可制得硅，同时还有一氧化碳生成。下列说法中正确的是[ ]
①工业上制硅的反应方程式为：SiO2+2CSi+2CO↑ ②上述反应属置换反应 ③碳在反应中表现出还原性 ④碳的非金属活泼性比硅强
A．仅①②
B．仅②③
C．仅①②③
D．①②③④
Si+2CO↑ ②上述反应属置换反应 ③碳在反应中表现出还原性 ④碳的非金属活泼性比硅强