简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。
参考答案:
P阱光刻,光刻有源区,光刻多晶硅,P+区光刻,N+区光刻,光刻接触孔,光刻铝线。
下列哪一种不是预后营养指数涉及的营养状况评定参数()
A.血清蛋白
B.血清转铁蛋白
C.三头肌皮褶厚度
D.迟发型超敏皮肤反应试验
E.血红蛋白
和劳动争议仲裁委员会以及人民法院处理劳动争议的程序不同,企业劳动争议调解委员会的调解是()。
A.独立的程序
B.连续的程序
C.和企业相关的程序
D.和劳动仲裁接口的程序