参考答案：

第一次光刻：N+隐埋层扩散孔光刻

第二次光刻：P隔离扩散孔光刻

第三次光刻：P型基区扩散孔光刻

第四次光刻：N+发射区扩散孔光刻

第五次光刻：引线孔光刻

第六次光刻：反刻铝