问题 填空题

从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料。请回答下列问题:

(1) 地壳里各种元素的含量(质量分数)如图所示,其中表示硅元素的是             (填字母)。 

(2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,则常温下硅的化学性质              (选填“活泼”、“不活泼”)。

(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意如下:

①整个制备过程必须达到无水无氧。在H2还原SiHCl3过程中若混入O2 ,可能引起的后果是                   

②由粗硅制取三氯甲硅烷的化学方程式为                 

③在生产过程中物质A可循环使用,A的化学式是                  ;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是                 

答案

(1)B 

(2)不活泼

(3) ① 爆炸(或硅被氧化或得不到高纯硅)

          ② Si + 3HClSiHCl3 + H2

          ③ HCl ;H2

单项选择题
判断题