为达到良好的抗力形，下列哪条是错误的（）
A.去除无基釉质
B.洞在牙本质有一定的深度
C.洞底线角明确
D.去除薄壁弱尖
E.都不正确
参考答案：C
1molCH4和足量的氯气在光照条件下反应，在生成物中物质的量最多的是
A．CH3Cl
B．CH2Cl2
C．CHCl3
D．HCl
什么是班风？班风有哪些功能？如何培养班风？
